9月11日，国家知识产权局学术委员会初审流程优化专业委员会组织召开2023年度一般课题中期评审会，杭州代办处《集成电路布图设计专有权登记相关实务问题研究》课题参加中期评审。

评审会上，杭州代办处课题组汇报了《集成电路布图设计专有权登记相关实务问题研究》前期研究开展情况，重点分析了我国集成电路布图设计审查制度方面存在的不足及原因，结合布图设计登记工作实际，提出优化制度设计、完善登记审查流程、健全审查工作机制、强化布图设计公共服务等方面的意见建议。评委们对杭州代办处前期研究成果予以充分肯定，认为集成电路课题研究内容全面，国内外材料详实，实证调研扎实，分析问题深入，并对下一步研究工作提出意见建议。

会议总结指出，此次课题研究站位高、研究实，具有较强的可操作性。会议强调，下一步，要在日常积累上再加强，更加注重材料的收集和分析；要在研究开展上再严密，更加注重研究的逻辑性和严谨性；要在成果运用上再聚焦，更加注重理论与实际相结合，确保研究成果既有前瞻性又有可操作性，切实加强对实际工作的指导。

下一步，杭州代办处将以本次中期评审为契机，按照评审专家的意见建议，进一步理清研究思路、深化资料收集、完善研究逻辑，切实把课题研究与业务实践结合起来，确保课题研究高质量开展。